VAT擺動控制閥65.3

65.3型壓力擺動控制閥為下游壓力控制與隔離樹立了新標準。該系列壓力擺動控制閥專為半導體及顯示器生產系統設計，可在寬導電率范圍內提供highest級別的可控性。65.3型壓力擺動控制閥配備集成位置控制的電機，可實現增強功能。

驅動控制器具備更強的32位數據處理能力，可實現全新可控性。這意味著擺動閥板的每個位置都能被快速、精細地控制，從而在極短響應時間內實現高度準確的下游壓力控制。閥門預設的運動序列可根據不斷變化的工藝參數動態調整速度與路徑。65.3型壓力擺動閥還能有效防止顆粒物釋放。閥板優化的阻尼閉合運動可避免傳統閥門常見的沖擊與振動。65.3型壓力擺動控制閥閉合過程平順，啟閉動作幾乎難以察覺。閥板提供精細機械導向，確保往復運動中實現非接觸式氣流控制，并在所有密封運動區域達成均勻密封。

65.3 壓力擺動控制閥已在數百個苛刻應用場景中安裝使用，涵蓋各種工藝條件，充分證明了其卓絕的可靠性和性能表現。65.3 壓力擺動控制閥同樣是改造現有系統的理想選擇。

65.3 壓力擺動閥規格為DN 100-350毫米（4“-14”），采用鋁材或硬質陽極氧化鋁制造，配備ISO-F和JIS標準法蘭接口。可集成定制法蘭或選擇直接安裝方案。標準密封材料為氟橡膠，亦可按需求選用其他材質。

控制器可采用特殊控制算法（自適應、固定PID、上游控制、軟萃取）。控制器上的各類標準接口可通過個人計算機輕松訪問，或連接至過程控制單元（PCU）。專用控制性能分析儀（CPA）軟件能便捷校準65.3型壓力擺動閥，并簡化維護計劃。

快速精細的保持壓力控制

無沖擊運行：無顆粒激活

提升工藝穩定性：整體控制流量與壓力

集成32位壓力調節器（IC2）及控制性能分析儀（CPA）

“即插即用”改造方案：無需拆卸或對準

卓絕的可靠性、精度與速度

延長維護周期

低運營成本

半導體制造

刻蝕與清潔工藝：在腐蝕性刻蝕和清潔應用中，65.3系列閥門可準確控制初始流導，避免顆粒污染，保障晶圓良率。

化學氣相沉積（CVD）：通過穩定壓力控制，優化薄膜沉積均勻性，提升器件性能。

顯示器生產

真空鍍膜工藝：在OLED、LCD等顯示面板的真空鍍膜過程中，閥門的高精度控制確保氣體分布均勻，減少缺陷產生。

其他高性能真空系統

科研實驗：在高能物理研究、真空鍍膜等場景中，閥門的高純度、低粒度特性滿足惡劣工藝條件需求。

太陽能電池板制造：通過準確控制真空環境，優化電池片生產效率。