59.0 UHV 全金屬可變泄漏閥允許準確控制非常小的氣體流量(1·10-10 mbar ls-1至500 mbar ls-1)。 憑借其全金屬設計,它非常適合 UHV 和UHV 工藝中的氣體計量要求。
59.0 的特殊控制功能保證了可重復的準確氣體流量設置,增強了過程控制能力。它還在整個生命周期內提供可靠、無泄漏的關閉,沒有任何密封疲勞的風險。
全金屬設計——不銹鋼閥體和鍍金不銹鋼薄膜閘門密封——使 59.0 還具有對腐蝕性和腐蝕性氣體的高耐受性。
59.0 已經安裝在各種工藝條件下的數千種苛刻應用中,證明了其可靠性。它已成為 UHV 和 XHV 應用中可變泄漏閥的標準解決方案。
高精度氣體流量控制
可準確控制微小氣體流量,范圍達 1×10?¹? mbar·L/s 至 500 mbar·L/s,滿足UHV/XHV工藝中氣體計量的嚴苛要求。
特殊控制機構確保氣體流量設置可重復,顯著提升工藝控制能力。
全金屬密封結構
采用 不銹鋼閥體 + 鍍金不銹鋼薄膜閘門密封,實現“硬對硬”金屬密封,消除密封疲勞風險,確保終生無泄漏。
對腐蝕性及侵蝕性氣體具有高耐受性,適用于半導體、科研等高純度要求場景。
模塊化與靈活性
提供 DN16mm(5/8英寸)規格,可選角閥或直通式結構。
支持手動操作或集成步進電機控制器,滿足不同自動化需求。

|
產地 |
瑞士 |
|
流量控制范圍 |
準確控制微小氣體流量,范圍為 1×10?¹? mbar·L/s 至 500 mbar·L/s,滿足UHV/XHV工藝中氣體計量的嚴苛要求。 |
|
密封性能 |
采用全金屬密封結構(不銹鋼閥體 + 鍍金不銹鋼薄膜閘門密封),實現“硬對硬”金屬密封,確保終生無泄漏,密封壽命達 40萬次調節循環 + 1萬次密閉關閉循環,且膜片支持便捷更換。 |
|
法蘭與接口 |
標配 可旋轉式CF-R法蘭,適配多種真空系統;可選角閥或直通式結構,提供 DN16mm(5/8英寸)規格。 |
|
操作方式 |
支持 手動操作 或集成 步進電機控制器(需注意:帶控制器時highest烘烤溫度為150℃,拆離控制器后可承受300℃烘烤)。 |
|
耐腐蝕性 |
全金屬設計對腐蝕性和侵蝕性氣體具有高耐受性,適用于半導體制造、科研裝置等高純度環境。 |
|
溫度范圍 |
閥體highest可承受 300℃(需拆離控制器烘烤),驅動器溫度限制為 ≤300℃。 |
|
重量與尺寸 |
閥門重量為 1.25 kg,結構緊湊,便于集成到真空系統中。 |
半導體制造
晶圓傳輸腔體隔離、CVD/PVD工藝腔氣體計量,確保高純度環境與準確流量控制。
科研裝置
同步輻射光束線、粒子加速器真空系統,滿足惡劣真空與穩定流量需求。
高真空實驗
表面科學、材料研究等領域,提供可靠的氣體定量輸送解決方案。