G+H調(diào)制器I-M0XX-XC11B76-P5-GH105

該調(diào)制器由鍺制成，非常適合高功率 CO 激光器的腔外調(diào)制或功率控制。將單晶鍺、高質(zhì)量光學(xué)精加工、堅(jiān)固的抗反射 (AR) 涂層和高可靠性換能器接合與新穎的聲學(xué)管理和光機(jī)械設(shè)計(jì)技術(shù)相結(jié)合，我們成功實(shí)現(xiàn)了良好的熱管理，同時(shí)保持高射頻功率處理、傳輸和衍射效率。

• 高光功率處理能力
• 低插入損耗
• 良好的指向穩(wěn)定性
• 良好的光束質(zhì)量
• 高衍射效率

• 產(chǎn)地：英國
• 波長：5.5微米
• 工作頻率：40.68兆赫、60兆赫
• 主動光圈：9.6毫米
• 上升/下降時(shí)間：120納秒/毫米
• 光學(xué)材料：鍺
• 光功率密度：最大：30 W/mm²（推薦）
• AR鍍膜反射率：每個(gè)表面 < 0.2% (<0.5% 5.25-5.75 µm)
• 傳播：> 98%
• 光偏振：線性、水平（平行于底座）
• 聲學(xué)模式：壓縮性
• 分離角：40.68 MHz 時(shí)為 41 mrad，60 MHz 時(shí)為 60 mrad
• 衍射效率：≥90%
• 射頻功率：最大：50W