ANNEALSYS快速熱化學氣相沉積系統MC-050

帶燈加熱的直接液體噴射汽化器使 MC-050成為一種獨特的機器，具有像集群工具一樣的多工藝能力，但在一個單一的工藝室內。

Annealsys MC-050系統是為滿足研發單位的要求而開發的2英寸DLI-CVD/DLI-ALD反應器。

紅外燈爐與直接液體注入蒸發器相結合，在同一工藝室內提供獨特的多工藝能力：CVD、ALD、MOCVD、RTP 和 RTCVD。

直接液體注入 (DLI) 蒸發器可控制前體流量，并允許使用低蒸氣壓和稀釋的化學前體。與旁通閥相關的前體蒸汽流的快速切換為納米層壓板的沉積提供了界面控制。

MC-050是使用廣泛的固體和液體有機金屬前體開發新材料和納米層壓材料的機器。

MC-050 可以使用廣泛的有機金屬前體進行化學氣相沉積和原子層沉積工藝，同時提供原位退火功能。

• 氣體混合能力與質量流量控制器
• 6個汽化器
• 手套箱裝載選項
• 可選擇高真空能力

MC-050可配備6個直接液體注入蒸發器和兩個用于高蒸氣壓前體的起泡器。

• 高溫計溫度控制
• 粗真空泵、渦輪泵
• 手套箱接口和手套箱
• 遠程等離子
• 臭氧發生器

• 基板尺寸：直徑可達2英寸
• 溫度范圍：室溫至 1100°C
• 電壓：3x400V+N+Gr/3x220V+Gr
• 功率：21千瓦
• 水：2至4巴，壓降1巴，8升/分鐘
• 壓縮空氣：6巴（閥門驅動）
• 真空范圍：大氣壓至 10-3 Torr
• 產地：法國

MC-050提供了廣泛的新材料開發能力，包括單金屬氧化物和多金屬氧化物以及過渡金屬●二硫化物 (TMD) 和其他二維材料。

• 簡單和多金屬氧化物
• 金屬、氮化物和合金
• III-V，寬帶隙半導體
• 二維材料：石墨烯、氮化硼、MoS2、WS2、MoSe2、WSe2 ...
• ETC